CN107247378A - 一种显示面板及其制程

本发明提供了一种显示面板及制程，所述显示面板，包括：依次设置的基板层、第一金属 ... [0003]传统的BOA (BM on Array)和POA (PS on Array)技术中，间隔物(PS)和黑 ... CN107247378A-一种显示面板及其制程 -GooglePatents 一种显示面板及其制程 DownloadPDF Info Publicationnumber CN107247378A CN107247378A CN201710592139.3A CN201710592139A CN107247378A CN107247378A CN107247378A CN107247378A CN201710592139A CN201710592139A CN201710592139A CN107247378A CN107247378A CN107247378A Authority CN China Priorartkeywords layer groove lightshield correspondence projection Priorartdate 2017-07-19 Legalstatus(Thelegalstatusisanassumptionandisnotalegalconclusion.Googlehasnotperformedalegalanalysisandmakesnorepresentationastotheaccuracyofthestatuslisted.) Granted Applicationnumber CN201710592139.3A Otherlanguages English(en) Otherversions CN107247378B (zh Inventor 叶岩溪 CurrentAssignee(Thelistedassigneesmaybeinaccurate.Googlehasnotperformedalegalanalysisandmakesnorepresentationorwarrantyastotheaccuracyofthelist.) 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遮光层边缘即对应公共电极线的侧边部部分设置在凹槽内，遮光层边缘厚度较厚，不容易造成漏光。

Description 一种显示面板及其制程【技术领域】 [0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显不面板及其制程。

【背景技术】 [0002]现有的显示面板主要包括有液晶（LiquidCrystalDisplay，LCD)显示面板和OLED(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示面板。

其中，OLED显示面板具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示面板。

[0003]传统的BOA(BMonArray)和POA(PSonArray)技术中，间隔物(PS)和黑矩阵(BM)为不同的材料，不同的制程。

[0004]BPS(BlackPhotoSpacer)是一种黑色的弹性材料，既能在边框区起到BM的遮光作用，又能在显示区起到PS的支撑作用。

BPS材料的出现使得把刚和PS两道制程合在一起成为了可能。

该技术能够节省液晶屏制作一道工艺制程，从而能够节省包括mask成本，工艺制程，仪器机台等产生的成本。

BPS技术有两种大约的分类，一种是直接以BPS材料当BM遮光，一种是在显示区(AA区）以色阻交叠遮光，在周边以BPS材料遮光。

[0005]第一种方法由于BM使用BPS材料，而BPS材料是一种新的材料，其材料特性和普通的服有了很大的改变。

其中，第一种方法无法避免BPS材料的一个特性问题，那就是BPStaperangle过缓，造成用BPS材料制成的BM坡度很缓，在边缘处的BM很薄，容易造成漏光。

【发明内容】 [0006]本发明的一个目的在于提供一种显示面板，其可以降低BM边缘的漏光风险和液晶倒向对有效显示区的影响。

[0007]本发明的另一个目的在于提供一种显示面板制程，其可以降低BM边缘的漏光风险和液晶倒向对有效显示区的影响。

[0008]为解决上述问题，本发明的优选实施例提供了一种显示面板，包括： [0009]—基板层； [0010]一第一金属层，形成在所述基板层上，所述第一金属层包括栅极线、和设置在所述栅极线两侧的公共电极线； [0011]一第一绝缘层，形成在所述第一金属层上； [0012]一第二金属层，形成在所述第一绝缘层的上，并与所述栅极线形成薄膜晶体管;一色阻层，形成在所述第二金属层上； [0013]一保护层，形成在所述色阻层上，所述保护层对应栅极线两侧的公共电极线设有凹槽；以及 [0014]一遮光层，形成在所述保护层上，所述遮光层对应栅极线和公共电极线设置，所述遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两凹槽之间的中间部，所述遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，所述遮光层中间部上设有第一突起和第二突起，所述第一突起的上表面高于第二突起的上表面，所述第一突起形成主间隔物，所述第二突起形成副间隔物。

[0015]在本发明优选实施例的显示面板中，所述凹槽的宽度大于或等于所述公共电极线的宽度。

[0016]在本发明优选实施例的显示面板中，所述色阻层对应副间隔物设有通槽，所述保护层覆盖所述通槽，所述保护层对应通槽设有凹口，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0017]在本发明优选实施例的显示面板中，所述色阻层对应主间隔物设有两层色阻层，所述色阻层对应副间隔物设有一层色阻层，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0018]在本发明优选实施例的显示面板中，所述色阻层对应主间隔物和副间隔物连续设置，所述主间隔物和副间隔物设置在所述色阻层上，所述副间隔物的高度小于所述主间隔物的高度。

[0019]在本发明优选实施例的显示面板中，所述凹槽底部宽度大于顶部宽度，所述凹槽底部宽度大于公共电极线的宽度，所述凹槽顶部的宽度等于公共电极线的宽度。

[0020]为解决上述问题，本发明的优选实施例还提供了一种显示面板的制程，所述显示面板的制程包括： [0021]提供一基板层； [0022]在所述基板层上形成第一金属层，将所述第一金属层形成栅极线、和设置在所述栅极线两侧的公共电极线； [0023]在所述第一金属层上形成第一绝缘层； [0024]在所述第一绝缘层上形成第二金属层，并使所述第二金属层与所述栅极线形成薄膜晶体管； [0025]在所述第二金属层上形成色阻层； [0026]在所述色阻层上形成保护层，在所述保护层对应栅极线两侧的公共电极线设置凹槽;以及 [0027]在所述保护层上形成遮光层，所述遮光层对应栅极线和公共电极线设置，所述遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两凹槽之间的中间部，所述遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，所述遮光层中间部上设有第一突起和第二突起，所述第一突起的上表面高于第二突起的上表面，所述第一突起形成主间隔物，所述第二突起形成副间隔物。

[0028]在本发明优选实施例的显示面板的制程中，在所述保护层对应公共电极线设置凹槽包括： [0029]在所述保护层上对应公共电极线，设置宽度大于或等于公共电极线的宽度的凹槽。

[0030]在本发明优选实施例的显示面板的制程中，还包括： [0031]在所述色阻层上设置通槽，所述保护层覆盖所述通槽，所述保护层对应通槽设有凹口，所述副间隔物设置在所述凹口上，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0032]在本发明优选实施例的显示面板的制程中，还包括： [0033]对应所述主间隔物设置两层色阻层，对应所述副间隔物设置一层色阻层，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0034]相对于现有技术，本发明的有益效果是:采用BPS材料形成遮光层，该遮光层对应栅极线和公共电极线设置，即覆盖遮挡栅极线和公共电极线，遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两个凹槽之间的中间部，遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，遮光层中间部上设有第一突起和第二突起分别形成主间隔物和副间隔物。

因为遮光层采用BPS材料，BPS材料taper角度过缓，遮光层边缘处很薄，容易造成漏光，本发明的遮光层边缘即对应公共电极线的侧边部设置在凹槽内，不会因为〖叩虹角度太小，导致遮光层边缘很薄，遮光层填充满凹槽，遮光层边缘厚度较厚，不容易造成漏光。

[0035]为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：【附图说明】 [0036]图1为传统的显示面板的结构示意图； [0037]图2为本发明实施例显示面板的结构示意图； [0038]图3为本发明实施例显示面板的俯视结构示意图； [0039]图4为本发明实施例显示面板的另一结构示意图； [0040]图5为本发明实施例显示面板的又一结构示意图； [0041]图6为本发明实施例显示面板制程的流程示意图。

【具体实施方式】 [0042]这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。

但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。

[0043]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

[0044]在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接;可以是机械连接，也可以是电连接;可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。

对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

[0045]这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。

除非上下文明确地另有所指，否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。

还应当理解的是，这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在，而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

[0046]在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

[0047]下面参考图1至图6描述本发明实施例一种显示面板及其制程。

[0048]根据本发明实施例，如图1至图6所示，图1为传统的显示面板的结构示意图；图2为本发明实施例显示面板的结构示意图，图2仅示出了显示面板的部分结构；图3为本发明实施例显示面板的俯视结构示意图，图3是图2中部分结构的俯视图；图4为本发明实施例显示面板的另一结构示意图，图4为副间隔物下方没有色阻层的示意图，主间隔物下方有一层色阻层；图5为本发明实施例显示面板的又一结构示意图，图5为副间隔物下方有一层色阻层的示意图，主间隔物下方有两层色阻层;图6为本发明实施例显示面板制程的流程示意图。

[0049]如图2和图3所示，本发明实施例公开了一种显示面板，该显示面板依次包括:基板层110、第一金属层120、第一绝缘层130、第二金属层、色阻层150、保护层160和遮光层170。

其中： [0050]基板层110可以为低温多晶桂（LTPS，lowtemperaturepoly-silicon)基板层。

也可以为玻璃基板、树脂基板等。

第一金属层120,形成在所述基板层上，所述第一金属层120包括栅极线121、和设置在所述栅极线121两侧的公共电极线122。

第一绝缘层130,形成在所述第一金属层120上。

第二金属层（图中未示出），形成在所述第一绝缘层130的上，并与所述栅极线121形成薄膜晶体管。

第二金属层还包括数据线等。

色阻层150,形成在所述第二金属层上。

[0051]保护层160,形成在所述色阻层150上，所述保护层160对应栅极线121两侧的公共电极线122设有凹槽161。

[0052]遮光层170,形成在所述保护层160上，所述遮光层170对应栅极线121和公共电极线122设置，所述遮光层170包括设置在凹槽161内的侧边部171，和设置在两凹槽161之间的中间部172,所述遮光层170侧边部171外侧面与凹槽161底面的角度大于60度，所述遮光层170中间部172上设有第一突起176和第二突起177,所述第一突起176的上表面高于第二突起177的上表面，所述第一突起176形成主间隔物，所述第二突起178形成副间隔物。

[0053]本实施例采用BPS材料形成遮光层170,该遮光层170对应栅极线121和公共电极线122设置，即覆盖遮挡栅极线121和公共电极线122,遮光层170包括设置在凹槽161内的侧边部171，和设置在两个凹槽161之间的中间部172,遮光层170侧边部171外侧面与凹槽161底面的角度大于60度，遮光层170中间部172上设有第一突起176和第二突起177分别形成主间隔物和副间隔物。

因为遮光层170采用BPS材料，BPS材料taper角度过缓，遮光层170边缘处很薄，容易造成漏光，本发明的遮光层170边缘即对应公共电极线122的侧边部171设置在凹槽161内，不会因为taper角度太小，导致遮光层170边缘很薄，遮光层170填充满凹槽161，遮光层170边缘厚度较厚，不容易造成漏光。

保护层160设置凹槽161后，BPS材料形成的遮光层1H在显影和固化后会聚集在凹槽1的内，能够有效的增加遮光层170边缘taper角度，保证遮光质量和此处的液晶倒向不会影响到有效显示区域。

[0054]对比如图1所示的传统设计的显示面板，传统的显示面板因为BPS材料特有的taperangle很小的材料特性问题，BpS材料替代传统BM功能taperangid^taper角只有11.25°。

如图1所不，以三种mask透过率实现BM，mainPS，subPS功能化的遮光层170截面示意图。

从图1中可以看出，由于遮光层l7〇taperangle很小，坡度很缓，在边缘处的遮光层170很薄，容易造成漏光。

并且taperangle小，此处的液晶倒向也容易受影响，从而影响显不品质。

[0055]为了降低BPS材料特有的taperangle很小的材料特性问题，在一定的位置上对保护层进行挖凹槽处理。

由于栅极线上的遮光是以遮光层为主，以公共电极线辅助遮光，所以保护层的凹槽在公共电极线的上方挖出。

[0056]为了降低BPS材料特有的taperangle很小的材料特性问题，在一定的位置上对保护层160进行挖凹槽161处理。

由于栅极线121上的遮光是以遮光层170为主，以公共电极线122辅助遮光，所以保护层160的凹槽161在公共电极线122的上方挖出。

[0057]其中，遮光层170侧边部171171外侧面与凹槽161底面的角度大于60度，即遮光层170的边缘与凹槽161底面的角度大于60度，边缘的厚度较厚，没有明显的比较薄的地方，gp节约PS材料，又能提供较好的遮光效果。

遮光层170的边缘与凹槽161底面的角度可以为90度，甚至大于90度，如1〇〇度、120度等。

[0058]其中，所述凹槽161的宽度大于或等于所述公共电极线122的宽度。

由于公共电极线122(metalcommon)的宽度大约为5um，凹槽161的宽度大于或等于公共电极线122(metalcommon)的宽度，可以设置为5um〜15um，具体可以设置为8um、10um、12um等，凹槽161的宽度也可以设置为4um〜5um〇 [0059]进一步的，所述凹槽161底部宽度大于顶部宽度，所述凹槽161底部宽度大于公共电极线122的宽度，所述凹槽161顶部的宽度等于公共电极线122的宽度。

可以容纳更多的PS材料，形成的遮光层170遮光效果更好。

[0060]可选的，如图4所示，所述色阻层150对应副间隔物设有通槽，所述保护层160覆盖所述通槽，所述保护层160对应通槽设有凹口，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

将色组层对应副间隔物的部分去除形成通槽，然后保护层160覆盖该通槽，并对应通槽形成凹口，副间隔物设置在凹口内，而主间隔物依次设置在色阻层150和保护层160上，主间隔物的下表面高于副间隔物的下表面，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

遮光层170形成新的Bitmask两种透过率来做BM、MainPS、SubPS，其中MainPS以色块来垫起，MainPS和SubPS用100%光罩透过率，BM用半光罩透过率。

[0061]还可选的，如图5所示，所述色阻层150对应主间隔物设有两层色阻层150,所述色阻层150对应副间隔物设有一层色阻层150,以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

具体的，色阻层150设有通槽，保护层160对应通槽设有凹口，凹口内填充BPS材料形成遮光层170，在通槽内对应主间隔物设有两层色阻层150，在通槽内对应副间隔物设有一层色阻层150,以使遮光层170的基部、副间隔物和主间隔物形成三段差。

遮光层17〇的基部形成新的BM。

如此，mask可以使用一种透过率来做BM、MainPS、SubPS。

其中MainPS以两种色块堆叠垫起，SubPS以一种色块垫起，BM、MainPS、SubPS均用100%光罩透过率。

其中色阻层15〇对应主间隔物设有的两层色阻层150可以同一种颜色的色阻层，也可以是不同颜色的色阻层，如红色色阻层和绿色色阻层堆叠形成。

[0062]还可选的，如图2所示，所述色阻层150对应主间隔物和副间隔物连续设置，所述主间隔物和副间隔物设置在所述色阻层15〇上，所述副间隔物的高度小于所述主间隔物的高度。

Mask三种透过率来做BM、MainPS、SubPS，MainPS用100%光罩透过率，SubPSBM用半光罩透过率，BM用20%半光罩透过率。

[0063]其中，所述凹槽161的内侧边与色阻层150通槽的侧边吻合。

也可以凹槽161的内侧边在色阻层150通槽的内。

[0064]如图6所示，本发明实施例还公开了一种显示面板的制程，该显示面板的制程包括步骤S201-S207。

[0065]S201:提供一基板层。

[0066]S202:在所述基板层上形成第一金属层，将所述第一金属层形成栅极线、和设置在所述栅极线两侧的公共电极线。

[0067]S203:在所述第一金属层上形成第一绝缘层。

[0068]S2〇4:在所述第一绝缘层上形成第二金属层，并使所述第二金属层与所述栅极线形成薄膜晶体管。

[0069]S205:在所述第二金属层上形成色阻层。

[0070]S206:在所述色阻层上形成保护层，在所述保护层对应栅极线两侧的公共电极线设置凹槽。

以及 [0071]S207:在所述保护层上形成遮光层，所述遮光层对应栅极线和公共电极线设置，所述遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两凹槽之间的中间部，所述遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，所述遮光层中间部上设有第一突起和第二突起，所述第一突起的上表面高于第二突起的上表面，所述第一突起形成主间隔物，所述第二突起形成副间隔物。

[0072]本实施例采用BPS材料形成遮光层，该遮光层对应栅极线和公共电极线设置，即覆盖遮挡栅极线和公共电极线，遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两个凹槽之间的中间部，遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，遮光层中间部上设有第一突起和第二突起分别形成主间隔物和副间隔物。

因为遮光层采用BPS材料，BPS材料taper角度过缓，遮光层边缘处很薄，容易造成漏光，本发明的遮光层边缘即对应公共电极线的侧边部设置在凹槽内，不会因为taper角度太小，导致遮光层边缘很薄，遮光层填充满凹槽，遮光层边缘厚度较厚，不容易造成漏光。

保护层设置凹槽后，BPS材料形成的遮光层在显影和固化后会聚集在凹槽内，能够有效的增加遮光层边缘taper角度，保证遮光质量和此处的液晶倒向不会影响到有效显示区域。

[G073]为了降低BPS材料特有的taperangle很小的材料特性问题，在一定的位置上对保护层进行挖凹槽处理。

由于栅极线上的遮光是以遮光层为主，以公共电极线辅助遮光，所以保护层的凹槽在公共电极线的上方挖出。

[0074]其中，遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，即遮光层的边缘与凹槽底面的角度大于60度，边缘的厚度较厚，没有明显的比较薄的地方，即节约PS材料，又能提供较好的遮光效果。

遮光层的边缘与凹槽底面的角度可以为90度，甚至大于90度，如100度、120度等。

[0075]其中，在所述保护层对应公共电极线设置凹槽包括:在所述保护层上对应公共电极线，设置宽度大于或等于公共电极线的宽度的凹槽。

[0076]由于公共电极线(metalcommon)的宽度大约为5um，凹槽的宽度大于或等于公共电极线(metalcommon)的宽度，可以设置为5um〜l5um，具体可以设置为8um、l〇um、12um等，凹槽的宽度也可以设置为4皿1〜5um。

[0077]进一步的，所述凹槽底部宽度大于顶部宽度，所述凹槽底部宽度大于公共电极线的宽度，所述凹槽顶部的宽度等于公共电极线的宽度。

可以容纳更多的PS材料，形成的遮光层遮光效果更好。

[0078]可选的，该制程还包括:在所述色阻层上设置通槽，所述保护层覆盖所述通槽，所述保护层对应通槽设有凹口，所述副间隔物设置在所述凹口上，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0079]将色组层对应副间隔物的部分去除形成通槽，然后保护层覆盖该通槽，并对应通槽形成凹口，副间隔物设置在凹口内，而主间隔物依次设置在色阻层和保护层上，主间隔物的下表面高于副间隔物的下表面，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

遮光层形成新的BH/Lmask两种透过率来做BM、MainPS、SubPS，其中MainPS以色块来垫起，MainPS和SubPS用100%光罩透过率，BM用半光罩透过率。

[0080]还可选的，该制程还包括:对应所述主间隔物设置两层色阻层，对应所述副间隔物设置一层色阻层，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

[0081]具体的，色阻层设有通槽，保护层对应通槽设有凹口，凹口内填充BPS材料形成遮光层，在通槽内对应主间隔物设有两层色阻层，对应副间隔物设有一层色阻层，以使遮光层的基部、副间隔物和主间隔物形成三段差。

遮光层的基部形成新的BM。

如此，mask可以使用一种透过率来做BM、MainPS、SubPS。

其中MainPS以两种色块堆叠垫起，SubPS以一种色块垫起，BM、MainPS、SubPS均用100%光罩透过率。

[0082]还可选的，该制程还包括:所述色阻层对应主间隔物和副间隔物连续设置，所述主间隔物和副间隔物设置在所述色阻层上，所述副间隔物的高度小于所述主间隔物的高度。

Mask三种透过率来做BM、MainPS、SubPS，MainPS用100%光罩透过率，SubPSBM用半光罩透过率，BM用20%半光罩透过率。

[0083]虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims(10) 1.一种显示面板，其特征在于，包括：一基板层；一第一金属层，形成在所述基板层上，所述第一金属层包括栅极线、和设置在所述栅极线两侧的公共电极线；一第一绝缘层，形成在所述第一金属层上；一第二金属层，形成在所述第一绝缘层的上，并与所述栅极线形成薄膜晶体管;一色阻层，形成在所述第二金属层上；一保护层，形成在所述色阻层上，所述保护层对应栅极线两侧的公共电极线设有凹槽；以及一遮光层，形成在所述保护层上，所述遮光层对应栅极线和公共电极线设置，所述遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两个所述凹槽之间的中间部，所述遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于60度，所述遮光层中间部上设有第一突起和第二突起，所述第一突起的上表面高于第二突起的上表面，所述第一突起形成主间隔物，所述第二突起形成副间隔物。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的宽度大于或等于所述公共电极线的宽度。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻层对应副间隔物设有通槽，所述保护层覆盖所述通槽，所述保护层对应通槽设有凹口，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻层对应主间隔物设有两层色阻层，所述色阻层对应副间隔物设有一层色阻层，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻层对应主间隔物和副间隔物连续设置，所述主间隔物和副间隔物设置在所述色阻层上，所述副间隔物的高度小于所述主间隔物的高度。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽底部宽度大于顶部宽度，所述凹槽底部宽度大于公共电极线的宽度，所述凹槽顶部的宽度等于公共电极线的宽度。

7.—种显示面板的制程，其特征在于，包括：提供一基板层；在所述基板层上形成第一金属层，将所述第一金属层形成栅极线、和设置在所述栅极线两侧的公共电极线；在所述第一金属层上形成第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成第二金属层，并使所述第二金属层与所述栅极线形成薄膜晶体管；在所述第二金属层上形成色阻层；在所述色阻层上形成保护层，在所述保护层对应栅极线两侧的公共电极线设置凹槽；以及在所述保护层上形成遮光层，所述遮光层对应栅极线和公共电极线设置，所述遮光层包括设置在凹槽内的侧边部，和设置在两凹槽之间的中间部，所述遮光层侧边部外侧面与凹槽底面的角度大于6〇度，所述遮光层中间部上设有第一突起和第二突起，所述第一突起的上表面高于第二突起的上表面，所述第一突起形成主间隔物，所述第二突起形成副间隔物。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制程，其特征在于，在所述保护层对应公共电极线设置凹槽包括：在所述保护层上对应公共电极线，设置宽度大于或等于公共电极线的宽度的凹槽。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制程，其特征在于，还包括：在所述色阻层上设置通槽，所述保护层覆盖所述通槽，所述保护层对应通槽设有凹口，所述副间隔物设置在所述凹口上，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

10.根据权利要求7所述的显示面板的制程，其特征在于，还包括：对应所述主间隔物设置两层色阻层，对应所述副间隔物设置一层色阻层，以使所述副间隔物和主间隔物形成段差。

CN201710592139.3A 2017-07-19 2017-07-19 一种显示面板及其制程 Active CN107247378B (zh) PriorityApplications(1) ApplicationNumber PriorityDate FilingDate Title CN201710592139.3A CN107247378B (zh) 2017-07-19 2017-07-19 一种显示面板及其制程 ApplicationsClaimingPriority(1) ApplicationNumber PriorityDate FilingDate Title CN201710592139.3A CN107247378B (zh) 2017-07-19 2017-07-19 一种显示面板及其制程 Publications(2) PublicationNumber PublicationDate CN107247378A true CN107247378A (zh) 2017-10-13 CN107247378B CN107247378B (zh) 2018-11-09 Family ID=60015307 FamilyApplications(1) ApplicationNumber Title PriorityDate FilingDate CN201710592139.3A Active CN107247378B (zh) 2017-07-19 2017-07-19 一种显示面板及其制程 CountryStatus(1) Country Link CN (1) CN107247378B (zh) CitedBy(3) *Citedbyexaminer,†Citedbythirdparty Publicationnumber Prioritydate Publicationdate Assignee Title CN110333635A (zh) * 2019-06-24 2019-10-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及显示面板 WO2020087649A1 (zh) * 2018-10-29 2020-05-07 惠科股份有限公司 彩膜基板、液晶显示面板以及液晶显示装置 CN111474784A (zh) * 2020-05-08 2020-07-31 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素结构及液晶显示面板 Citations(4) *Citedbyexaminer,†Citedbythirdparty Publicationnumber Prioritydate Publicationdate Assignee Title US20160170273A1 (en) * 2014-12-12 2016-06-16 SamsungDisplayCo.,Ltd. Liquidcrystaldisplay US20160231617A1 (en) * 2015-02-09 2016-08-11 SamsungDisplayCo.,Ltd. Liquidcrystaldisplayandmanufacturingmethodofthesame CN106324899A (zh) * 2016-11-08 2017-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板 CN106773406A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 一种电子设备、阵列基板及其制作方法 2017 2017-07-19 CN CN201710592139.3A patent/CN107247378B/zh active Active PatentCitations(4) *Citedbyexaminer,†Citedbythirdparty Publicationnumber Prioritydate Publicationdate Assignee Title US20160170273A1 (en) * 2014-12-12 2016-06-16 SamsungDisplayCo.,Ltd. Liquidcrystaldisplay US20160231617A1 (en) * 2015-02-09 2016-08-11 SamsungDisplayCo.,Ltd. Liquidcrystaldisplayandmanufacturingmethodofthesame CN106324899A (zh) * 2016-11-08 2017-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板 CN106773406A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 一种电子设备、阵列基板及其制作方法 CitedBy(4) *Citedbyexaminer,†Citedbythirdparty Publicationnumber Prioritydate Publicationdate Assignee Title WO2020087649A1 (zh) * 2018-10-29 2020-05-07 惠科股份有限公司 彩膜基板、液晶显示面板以及液晶显示装置 CN110333635A (zh) * 2019-06-24 2019-10-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及显示面板 CN111474784A (zh) * 2020-05-08 2020-07-31 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素结构及液晶显示面板 CN111474784B (zh) * 2020-05-08 2021-06-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素结构及液晶显示面板 AlsoPublishedAs Publicationnumber Publicationdate CN107247378B (zh) 2018-11-09 SimilarDocuments Publication PublicationDate Title CN107247378B (zh) 2018-11-09 一种显示面板及其制程 CN103926739B (zh) 2017-01-04 显示面板及显示装置 CN206618932U (zh) 2017-11-07 显示面板及显示装置 CN105353567A (zh) 2016-02-24 采用无黑色矩阵技术的va型液晶显示面板及其制作方法 CN202049313U (zh) 2011-11-23 一种阵列基板及薄膜晶体管液晶显示器 CN103529575A (zh) 2014-01-22 液晶显示装置 CN105589264A (zh) 2016-05-18 窄边框平板显示器 CN104375344B (zh) 2017-09-15 液晶显示面板及其彩膜阵列基板 CN107290911A (zh) 2017-10-24 一种显示面板及其制程 CN107315287A (zh) 2017-11-03 一种显示面板及其制程 CN104730756A (zh) 2015-06-24 彩膜基板及其制备方法、显示面板 CN102736325B (zh) 2015-08-12 一种像素结构及其制造方法、显示装置 KR101818452B1 (ko) 2018-01-15 액정표시장치및이의제조방법 CN103474432A (zh) 2013-12-25 一种阵列基板及其制备方法和显示装置 CN102790051B (zh) 2014-12-10 阵列基板及其制备方法、显示装置 KR20150084230A (ko) 2015-07-22 박막트랜지스터표시판및액정표시장치 CN104460146A (zh) 2015-03-25 Boa型液晶面板及其制作方法 CN103487969A (zh) 2014-01-01 彩色滤光单元宽度的测量方法以及液晶面板的制作方法 CN105093752A (zh) 2015-11-25 液晶面板 CN102890380B (zh) 2014-11-05 Tft阵列基板及其制作方法和液晶显示装置 CN105355632A (zh) 2016-02-24 一种ltps阵列基板以及液晶显示面板 CN104460150A (zh) 2015-03-25 阵列基板、液晶显示面板及该阵列基板的制造方法 CN103149731A (zh) 2013-06-12 彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置 CN103149763B (zh) 2016-04-13 Tft-lcd阵列基板、显示面板及其制作方法 CN106526937A (zh) 2017-03-22 Tft阵列基板、液晶显示面板和显示装置 LegalEvents Date Code Title Description 2017-10-13 PB01 Publication 2017-10-13 PB01 Publication 2017-11-10 SE01 Entryintoforceofrequestforsubstantiveexamination 2017-11-10 SE01 Entryintoforceofrequestforsubstantiveexamination 2018-11-09 GR01 Patentgrant 2018-11-09 GR01 Patentgrant