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本文以下即介紹以a-Si為主角的TFT概述。
... Channel) (見圖6(b)),這也就是習知的TFT漏電流(Current Leakage)機制之一,一般隨a-Si膜厚減薄或者較大 ...
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由於終端市場應用面大開,加速催生非晶態半導體的時代,當中最為人熟知者為矽基非晶(AmorphousSilicon,a-Si)半導體;見圖1[1,2],自90年代風行的TFT-LCD,甚至這兩年火紅的太陽能產業均能看見它的蹤跡。
本文以下即介紹以a-Si為主角的TFT概述。
深入瞭解可知,a-Si在應用上因為其可以沈積在多種基材(Substrate)如矽晶圓、玻璃、塑膠片上;再者,製程溫度僅400℃上下、成膜易大面積化,且無形狀限制,大大降低單位生產成本;以及,敏銳的光-電特性,特別是光吸收係數大…等特點,使得a-Si材料成為近年來薄膜半導體的顯學。
a-Si不是完美的晶體,結構上長程無原子次序、物性不具等向性、原子間距不固定且鍵結薄弱,甚至有空鍵形成懸浮鍵(DanglingBond),並且a-Si膜質和製程設備、硬體參數、化學反應環境等因素強相關,所以製程再現性、均勻度一直是工業生產、實驗研究上的重點。
圖3、主流TFT
a-SiTFT電特性如同其他微電子元件,TFT電性的探討或性能的評估多數圍繞在電流-電壓特性曲線(I-VCurve)上(圖6(a))。
大體而言,TFT按閘電壓高低分為導通區(Above-thresholdregime)、次臨界(Sub-thresholdregime)及Poole-FrenkelEmission區間;或者,閘極電壓以零伏分野,當Vg>0稱前饋段(Forward-regime),反之Vg<0則為反向區(Reverse-regime)[1]。
(1) TFT處於Above-thresholdRegime下,Fermi級(FermiLevel)進入導帶尾態,此意味著有更多的電子加入傳導行列,最終在汲、源極間導通產生~106A的電流。
Above-threshold又稱作線性區,因為在此電流與閘電壓大致呈線性關係之故,而LCD中的畫素充/放電時TFT即操作在此一區間;(2) 顧名思義,次臨界中TFT位於導通/關閉(On/Off)轉態的過渡區。
給定正的閘電壓時,感應的電子多數灌入類受體DeepState和a-Si/GI介面,且大部分被前面介紹的缺陷所捕獲,以致產生10-10~10-8A間的有限電流;相對地,若閘電壓往負方向調整,如此將驅離通道中的電子,使得Channel逐漸為電子空乏(Depletion),而使得導通電流下降;儘管如此,此條件下卻會在a-Si/GI背面(BackInterface)形成微弱的背電子通道(BackChannel)(見圖6(b)),這也就是習知的TFT漏電流(CurrentLeakage)機制之一,一般隨a-Si膜厚減薄或者較大的Vd工作電壓下,此漏電的現象也會更加明顯;(3) 當Vg往-10V以下移動再加上足夠大的Vd,TFT即進入Poole-FrenkelEmission區。
此時,半導體FrontChannel伴隨電洞載子累積,而且因為閘、汲極重疊電極之間的高電場產生熱離子放射(ThermionicEmission)出電洞,所以這區的電流主要靠電洞生成,不過……《本文節錄自材料世界網「材料最前線」專欄,詳細全文請見下方附檔》
★作者:蔡東璋、曾貴聖、張峻榮
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