LED 製程- 漢民科技- 提供半導體製造與平面顯示器製程設備
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光阻塗佈: 去水烘烤、HMDS塗佈、光阻塗佈、厚PI塗佈、軟烤將光阻由噴嘴噴吐在晶圓上,使用旋轉載台帶動晶片高速旋轉後,將光阻均勻散佈在晶圓片上.
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黃光微影塗佈及顯影(Photo-Lithography)
光阻塗佈:去水烘烤、HMDS塗佈、光阻塗佈、厚PI塗佈、軟烤將光阻由噴嘴噴吐在晶圓上,使用旋轉載台帶動晶片高速旋轉後,將光阻均勻散佈在晶圓片上
光顯影:曝後烤、顯影、硬烤將顯影液由噴嘴噴吐在晶圓上,將光阻顯影後以DIW(去離子)水加以沖洗,然後再將晶圓上的水旋乾。
可配合客戶壓印製程使用
Product
LEDCoater&Developer(4"&6")
AstLtd.(臺灣)
LEDE-BeamEvaporator:Metal,ITOFilmEvaporator.LEDSpinCoater/Developer:PhotoResistSpinCoater/DeveloperLEDPlasmaEtcher/Stripper:Sapphire,MesaICPEtcher.LEDWaferBonder
乾式蝕刻(DryEtch)
利用氣體作為反應物,以低壓和高能的環境產生電漿,去除藍寶石晶圓表面定義出PSS圖形,以及在藍光與紅黃光LEDChip製程中進行GaN、AlGaN、GaAs、AGIP四元素等化合物蝕刻。
Product
LEDPlasmaEtchSystem
AstLtd.(臺灣)
LEDE-BeamEvaporator:Metal,ITOFilmEvaporator.LEDSpinCoater/Developer:PhotoResistSpinCoater/DeveloperLEDPlasmaEtcher/Stripper:Sapphire,MesaICPEtcher.LEDWaferBonder
磊晶(EPI)
磊晶(Epitaxy)是在磊晶基版上以延續基版的原子排列方式長出一層薄膜
Product
MOCVDSystems(Upto8”)MESeriesforNitrideBaseApplicationsMGSeriesforAsPBaseApplicationsMPSeriesforPowerApplications
檢測(Inspection)
高分辨率X射線衍射檢測
Product
薄膜(ThinFilm)
電子束蒸鍍設備是在高真空的腔體中,使用電子束(E-Beam)照射的方式加熱材料至材料蒸發讓材料附著於晶圓的表面形成薄膜鍍層。
Product
Evaporator
AstLtd.(臺灣)
LEDE-BeamEvaporator:Metal,ITOFilmEvaporator.LEDSpinCoater/Developer:PhotoResistSpinCoater/DeveloperLEDPlasmaEtcher/Stripper:Sapphire,MesaICPEtcher.LEDWaferBonder
封膠(Encapsulation)
利用二流體氣壓霧化方式,將膠材均勻塗佈,亦可混合光色彩轉換材料達到一致的色彩分佈性。
應用領域螢光粉、光色轉換材料(Quantumdot)、光阻(厚光阻、薄光阻、有色光阻)、矽膠、奈米碳粉及環氧樹脂等塗佈應用。
適用於具高深寬比結構特性。
可協助客戶依材料特性進行製程調整。
Product
SprayCoater
延伸文章資訊
- 1光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 管理學院
第二章光阻鍍膜機製程介紹. 本章流程圖. 介紹光阻的化學性質與作用光阻化學成分簡介光阻劑主成之要點. 去水烘烤HMDS 光阻塗佈機製程原理及關係式軟烤的溫度控制.
- 2半導體製程類設備- 瀚柏科技prohanns
光阻塗佈機/Coater. CSE S-470主要是用來作半導體黃光製程的光阻塗佈。Spin Coating是最廣為用來上光阻的方法,通常的做法是將定量的阻劑塗佈在晶圓中心,在藉由不同 ...
- 3自動化光阻塗佈及顯影系統(TRACK)-注意事項
- 4知識小百科
光阻劑的主要功能為在微影成像過程中將光罩上的圖形轉移至晶片上,當作蝕刻或離子植入時的保護層。 光阻塗佈機(Spin Coater). 主要是用來作光阻的塗佈。
- 5LED 製程- 漢民科技- 提供半導體製造與平面顯示器製程設備
光阻塗佈: 去水烘烤、HMDS塗佈、光阻塗佈、厚PI塗佈、軟烤將光阻由噴嘴噴吐在晶圓上,使用旋轉載台帶動晶片高速旋轉後,將光阻均勻散佈在晶圓片上.