晶圓旋轉光阻塗佈機 - 專研半導體濕製程設備

光阻塗佈程式的參數有光阻管路、轉速、加速度、對應時間、EBR及Exhaust on/off 等。

• Spin speed 範圍在50~5000 rpm，精準度為+/-1 rpm。

• 高精密度的熱板溫度控制，控 ... 產品精準搜尋 首頁 首頁 公司簡介 企業簡介 企業沿革 全球據點 專業認證 產品介紹 半導體製程 晶圓清洗機 Metallift-off去光阻機 化學蝕刻機 上光阻機(Spin) 顯影機 廢水處理設備 手機鏡頭模組清洗設備 CCM清洗機 晶圓清洗機（切割後） 半導體封裝產品清洗 在線噴淋清洗機 元器件清洗 浸入式離心清洗機 SMT系列清洗設備 噴淋清洗機 鋼網清洗機 夾具清洗機 絲網清洗機 誤印板清洗機 離線清洗機 機台附屬治具 晶片夾 中古機台專區 新產品介紹 最新消息 問與答 資料下載 聯絡凱爾迪 點選清單 半導體製程 晶圓清洗機 Metallift-off去光阻機 化學蝕刻機 上光阻機(Spin) 顯影機 廢水處理設備 手機鏡頭模組清洗設備 CCM清洗機 晶圓清洗機（切割後） 半導體封裝產品清洗 在線噴淋清洗機 元器件清洗 浸入式離心清洗機 SMT系列清洗設備 噴淋清洗機 鋼網清洗機 夾具清洗機 絲網清洗機 誤印板清洗機 離線清洗機 機台附屬治具 晶片夾 中古機台專區 上光阻機(Spin) 晶圓旋轉光阻塗佈機 產品說明 • 晶圓全自動上光阻機，適用8”晶圓凸塊製程，分為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。

• 可提供二種光阻不同膜厚製程。

光阻利用高壓瓶或精準微量pump供應，輸出光阻量精確可達0.1CC。

• 配備光阻噴膠頭及腔體潤濕系統，避免光阻粉塵，維持製程最高潔淨度。

• 上光阻腔體，易拆、易洗及容易安裝特性、縮短預防保養時間，減輕設備工程師負擔。

• 各模組可獨立運行，可進行主程式流程和各站子程式的編輯。

• 圖形化對應操作介面，操作簡單，維護方便。

• 機台分為兩大主體結合，一為傳送和上光阻模塊，另一為冷熱烤盤模塊。

立即詢價 規格說明 • 機械人手臂自動取放片，晶片尋邊置中，自動coating光阻和軟烤冷卻。

• 光阻塗佈程式的參數有光阻管路、轉速、加速度、對應時間、EBR及Exhauston/off等。

• Spinspeed範圍在50~5000rpm，精準度為+/-1rpm。

• 高精密度的熱板溫度控制，控溫範圍在50~200°C，平均溫控均勻性可達0.8°C內。

冷板的控溫能力在0.2°C之內。

• 機台潔淨等級為Class100withHEPA。

腔體設計無粉塵、光阻回濺、EBR及BSR回濺等Defect。

• 不同厚度的光阻均勻度在5%之內。

• 配備光阻dummydispense功能。

應用範圍 • 凸塊製程上光阻機(PR/PI) • RDL製程光阻 • 助焊劑Coating • BARC、SOGCoating 瀏覽記錄 3詢價清單 立即詢價 數據加載中...請稍候...!! ⨯ 關於cookie的說明 如果繼續瀏覽，您同意本網站的隱私權與Cookie政策。

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